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Bossuyt, Rémy. Etude et conception de microstructures complexes pour la réalisation de systèmes optiques à destination de la correction ophtalmique

Bossuyt, Rémy (2012). Etude et conception de microstructures complexes pour la réalisation de systèmes optiques à destination de la correction ophtalmique.

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Résumé en francais

Dans cette thèse sur la conception et la réalisation d'une structure pixellisée transparente pour laquelle la diffraction et la diffusion doivent être imperceptibles, la structure à double damier empilé a été la mieux adaptée. Une étude des techniques de lithographie pour les grandes surfaces est proposée. L'objet est réalisé avec un sol-gel à phase organique et inorganique, modifié pour être photosensible, de type négatif et transparent dans le visible. La résine est étudiée sous l'angle de ses performances en photolithographie au regard des caractéristiques particulières de chaque niveau (damiers à alternance de cuves et plots). Le gamma de la résine et les paramètres optimums d'insolation ont été déterminés. Une nouvelle méthode de détermination du gamma, adaptée aux résines négatives, est proposée. La réalisation de la structure multi-niveaux par photolithographie et laminage permet la séparation entre damiers de niveaux différents grâce au dépôt d'une couche de résine intermédiaire. Les pixels du niveau inférieur sont scellés en une seule fois. Les caractérisations dimensionnelles des objets fabriqués, au cours du développement du procédé, ont été étudiées au MEB et au profilomètre mécanique. Un banc laser qui déterminant le pas de diffraction des structures, a été mis en place. Les caractérisations optiques réalisées avec le Haze Gard ou le DHM ont permis d'obtenir une image de phase en transmission. Cette étape montre qu'un compromis entre le niveau de diffraction et le niveau de diffusion doit être trouvé pour les besoins de l'optique ophtalmique.

Sous la direction du :
Directeur de thèse
Camon, Henri
Ecole doctorale:Génie électrique, électronique, télécommunications (GEET)
laboratoire/Unité de recherche :Laboratoire d'Analyse et d'Architecture des Systèmes (LAAS) - CNRS
Mots-clés libres :Photolithographie - Gamma - Pixellisation - Damier - Laminage - SEM - Résine négative - DHM
Sujets :Physique
Déposé le :28 Apr 2014 12:36